知的財産法の基礎誤り発見
知的財産権の出願・登録制度に関する以下の記述で、誤っているものはどれか。
A.特許権と意匠権は登録制であり、商標権と同様に出願と登録審査を経る必要がある。← 正解
✓ 正解です。この記述が誤りです。特許権は登録制ですが、商標権のように必ず登録が必要な制度ではありません。また、意匠権も登録制です。
B.著作権は登録制ではなく、著作物の創作と同時に権利が発生する。
✓ この記述は正しい。著作権は登録制ではなく、著作物の創作により自動的に権利が発生します。
C.知的財産権の出願について、優先権主張制度により、外国での出願日を国内出願日として扱える。
✓ この記述は正しい。優先権主張制度（パリ条約）により、外国での出願日から一定期間内の国内出願は外国出願日を基準日として扱われます。
D.実用新案権は特許権と異なり、設定登録までに実質的な審査を行わない。
✓ この記述は正しい。実用新案権は設定登録時に実質審査を行わず、無審査登録制度を採用しています。